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본 발명은, 크롬 표면을 가지는 기재, 및 니켈, 니켈 합금들, 구리 및 구리 합금들을 포함하는 군에서 선택된, 기재와 크롬 표면 사이 적어도 하나의 중간층의 캐소딕 부식 방지 방법에 관한 것으로, 상기 크롬 표면은, 상기 기재, 적어도 하나의 애노드 및 수용액으로 전류를 통과시키면서 인을 함유한 적어도 하나의 화합물을 포함하는 수용액과 접촉되고 상기 기재는 캐소드로서 역할을 한다. 인 화합물은 바람직하게 RR2R3P03 유형의 포스폰산이고, R 은 n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, 비치환된 분지형 C8 ~ C18 알킬 잔기들로 구성된 군에서 선택되고, R2 및 R3 은 H 또는 Li+, Na+, K+ 및 NH4+ 에서 선택된 적합한 카운터 이온이다. 수용액은 또한 포스폰산의 용해도를 높이는 적어도 하나의 첨가제를 포함한다. |
