发明名称 | 一种基于五元素模型的MOS电容测量方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种基于五元素模型的MOS电容测量方法,包括:建立MOS电容的五元素等效电路模型;对MOS电容采用两元素并联模型在两个不同频率下进行C‑V测量并且进行I‑V测量;根据所述五元素等效电路模型以及测量结果提取所述MOS电容的辅助特征方程;根据所述辅助特征方程求解得到所述MOS电容的电容值。本发明方法应用于无色散电介质的MOS结构中,得到的合理的MOS电容并且不随选取的两个频率而变化(即无色散),其他四个元素也都有合理的数值解,显示出基于五元素模型的MOS电容测量方法的合理性和自洽性。 | ||
申请公布号 | CN105954600A | 申请公布日期 | 2016.09.21 |
申请号 | CN201610522936.X | 申请日期 | 2016.07.05 |
申请人 | 大连海事大学 | 发明人 | 张希珍;陈宝玖;于涛 |
分类号 | G01R27/26(2006.01)I | 主分类号 | G01R27/26(2006.01)I |
代理机构 | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人 | 李馨;李洪福 |
主权项 | 一种基于五元素模型的MOS电容测量方法,其特征在于,包括:建立MOS电容的五元素等效电路模型;采用两元素并联模型对所述MOS电容在两个不同频率下进行C‑V测量并且进行I‑V测量;根据所述五元素等效电路模型以及测量结果提取所述MOS电容的辅助特征方程;根据所述辅助特征方程求解得到所述MOS电容的电容值。 | ||
地址 | 116026 辽宁省大连市高新园区凌海路1号 |