| 发明名称 | 阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置，属于显示技术领域。所述制作方法包括：在衬底基板上形成氧化物有源层，所述衬底基板包括显示区域和非显示区域；在所述氧化物有源层上形成光刻胶层；形成有源层图形；去除所述显示区域的光刻胶层；对所述显示区域的氧化物有源层进行等离子体表面处理，以增加所述显示区域的氧化物有源层的含氧量。本发明能够同时保证显示区域和非显示区域的薄膜晶体管的可靠性。 | ||
| 申请公布号 | CN105957872A | 申请公布日期 | 2016.09.21 |
| 申请号 | CN201610566052.4 | 申请日期 | 2016.07.18 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 崔承镇 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人 | 滕一斌 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：在衬底基板上形成氧化物有源层，所述衬底基板包括显示区域和非显示区域；在所述氧化物有源层上形成光刻胶层；形成有源层图形；去除所述显示区域的光刻胶层；对所述显示区域的氧化物有源层进行等离子体表面处理，以增加所述显示区域的氧化物有源层的含氧量。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||