带凹凸结构膜的玻璃基板的使用干式蚀刻的制造方法、带凹凸结构膜的玻璃基板、太阳能电池及太阳能电池的制造方法

摘要

本发明提供通过干式蚀刻精度良好地赋予微细的凹凸结构的带凹凸结构膜的玻璃基板的使用干式蚀刻的制造方法、带凹凸结构膜的玻璃基板、太阳能电池及太阳能电池的制造方法。在对由干式蚀刻时的蒸气压相互不同的多个氧化物构成的玻璃基板赋予凹凸结构时，包括在玻璃基板的平坦的表面形成由单一材料构成的被加工膜的被加工膜形成工序和利用干式蚀刻在被加工膜的表面形成周期性的凹凸结构的凹凸结构形成工序，通过干式蚀刻精度良好地赋予微细的凹凸结构。

主权项

一种太阳能电池的制造方法，其通过带凹凸结构膜的玻璃基板的使用干式蚀刻的制造方法制造带凹凸结构膜的玻璃基板，该带凹凸结构膜的玻璃基板的制造方法包括：被加工膜形成工序，在由干式蚀刻时的蒸气压相互不同的多个氧化物构成的玻璃基板的一面，形成由单一材料构成且以所述玻璃基板的折射率为基准与所述玻璃基板的折射率的差在15％以内的被加工膜；凹凸结构形成工序，在所述被加工膜的表面，利用干式蚀刻形成周期不足1μm且包含与所述玻璃基板平行的平坦面的凹凸结构，所述太阳能电池的制造方法包括：导电膜成膜工序，在带凹凸结构膜的玻璃基板上，以与所述凹凸结构膜的凹凸结构接续，在所述凹凸结构膜远离所述玻璃基板的面上以能够形成凹凸结构的厚度形成透明导电膜；光电转换层形成工序，在所述透明导电膜上，以与所述透明导电膜的凹凸结构接续，在所述透明导电膜远离所述凹凸结构膜的面上以能够形成凹凸结构的厚度形成光电转换层；背面形成工序，在所述光电转换层上，以与所述光电转换层的凹凸结构接续，在所述光电转换层远离所述透明导电膜的面上以能够形成凹凸结构的厚度形成背面反射层及背面电极层，所述凹凸结构膜的凹凸结构和所述透明导电膜的凹凸结构的周期均比所述光电转换层中的吸收端的波长所对应的光学波长小。