发明名称 |
集成电路制造用多平台工作台的工作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种集成电路制造用多平台工作台的工作方法,包括:使用夹持装置放置待处理晶圆;控制芯片通过变频器控制主电机,主电机旋转,将第一待处理晶圆旋转至工作位;集成电路制造处理装置对工作位上的晶圆进行处理;处理结束之后,将第一待处理晶圆移出工作位,第二待处理晶圆移入工作位。集成电路制造处理装置对处于工作位上的第二待处理晶圆进行处理;同时,夹持装置将第一待处理晶圆移出工作台,并补入新的待处理晶圆;步骤5、重复步骤3、步骤4。本发明所述方法,可以大大提高半导体制造的工作效率,使得半导体制造的工作过程连续化,且本发明所述的方法适用于多种半导体制造的工作流程,适用范围广,适合推广使用。 |
申请公布号 |
CN105957825A |
申请公布日期 |
2016.09.21 |
申请号 |
CN201610574255.8 |
申请日期 |
2016.07.19 |
申请人 |
无锡宏纳科技有限公司 |
发明人 |
吕耀安 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 |
代理人 |
聂汉钦 |
主权项 |
一种集成电路制造用多平台工作台的工作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、使用夹持装置,在每个副旋转圆盘(3)之上放置待处理晶圆;步骤2、控制芯片通过变频器控制主电机,主电机旋转,将第一待处理晶圆旋转至工作位;控制芯片通过变频器控制副电机,副电机带动副旋转轴(2)旋转,将第一待处理晶圆调整至最佳位置;集成电路制造处理装置(5)对工作位上的晶圆进行处理;步骤3、处理结束之后,控制芯片通过变频器控制主电机,主电机旋转,带动主旋转轴(6)旋转,将第一待处理晶圆移出工作位,第二待处理晶圆移入工作位;步骤4、控制芯片通过变频器控制副电机,副电机带动副旋转轴(2)旋转,将第二待处理晶圆调整至最佳位置;集成电路制造处理装置(5)对处于工作位上的第二待处理晶圆进行处理;同时,夹持装置将第一待处理晶圆移出工作台,并补入新的待处理晶圆;步骤5、重复步骤3和步骤4。 |
地址 |
214000 江苏省无锡市新区清源路20号太湖国际科技园传感网大学科技园立业楼D区一楼 |