发明名称 集成电路制造用多平台工作台的工作方法
摘要 本发明公开了一种集成电路制造用多平台工作台的工作方法,包括:使用夹持装置放置待处理晶圆;控制芯片通过变频器控制主电机,主电机旋转,将第一待处理晶圆旋转至工作位;集成电路制造处理装置对工作位上的晶圆进行处理;处理结束之后,将第一待处理晶圆移出工作位,第二待处理晶圆移入工作位。集成电路制造处理装置对处于工作位上的第二待处理晶圆进行处理;同时,夹持装置将第一待处理晶圆移出工作台,并补入新的待处理晶圆;步骤5、重复步骤3、步骤4。本发明所述方法,可以大大提高半导体制造的工作效率,使得半导体制造的工作过程连续化,且本发明所述的方法适用于多种半导体制造的工作流程,适用范围广,适合推广使用。
申请公布号 CN105957825A 申请公布日期 2016.09.21
申请号 CN201610574255.8 申请日期 2016.07.19
申请人 无锡宏纳科技有限公司 发明人 吕耀安
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 代理人 聂汉钦
主权项 一种集成电路制造用多平台工作台的工作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、使用夹持装置,在每个副旋转圆盘(3)之上放置待处理晶圆;步骤2、控制芯片通过变频器控制主电机,主电机旋转,将第一待处理晶圆旋转至工作位;控制芯片通过变频器控制副电机,副电机带动副旋转轴(2)旋转,将第一待处理晶圆调整至最佳位置;集成电路制造处理装置(5)对工作位上的晶圆进行处理;步骤3、处理结束之后,控制芯片通过变频器控制主电机,主电机旋转,带动主旋转轴(6)旋转,将第一待处理晶圆移出工作位,第二待处理晶圆移入工作位;步骤4、控制芯片通过变频器控制副电机,副电机带动副旋转轴(2)旋转,将第二待处理晶圆调整至最佳位置;集成电路制造处理装置(5)对处于工作位上的第二待处理晶圆进行处理;同时,夹持装置将第一待处理晶圆移出工作台,并补入新的待处理晶圆;步骤5、重复步骤3和步骤4。
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