发明名称 基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置及方法
摘要 一种光纤光栅制作技术领域的基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置及方法,该装置包括:伽马辐射源、掩模板、刻写平台和光纤绕制器,其中:刻写平台为顶部开口的半封闭盒式结构,刻写平台开口处设置掩模板,刻写平台内部设置有光纤绕制器,伽马辐射源、掩模板和光纤绕制器从上至下依次相对设置;所述的光纤绕制器包括:光纤盘和位于光纤盘上方左右两侧水平设置的滚轴。本发明采用的伽马辐射源穿透性强,在光纤光栅刻写时无需剥离和重建涂覆层,避免对光纤强度及损耗造成影响,确保了光纤光栅的稳定性;同时伽马辐射源作用面积大,多条光纤能够并行排布同时刻写,便于大规模批量生产。
申请公布号 CN105938219A 申请公布日期 2016.09.14
申请号 CN201610398751.2 申请日期 2016.06.07
申请人 上海交通大学 发明人 何祖源;马麟;徐阳;姜寿林
分类号 G02B6/02(2006.01)I 主分类号 G02B6/02(2006.01)I
代理机构 上海交达专利事务所 31201 代理人 王毓理;王锡麟
主权项 一种基于伽马辐射源制作光纤光栅的装置,其特征在于,包括:伽马辐射源、掩模板、刻写平台和光纤绕制器,其中:刻写平台为顶部开口的半封闭盒式结构,刻写平台开口处设置掩模板,刻写平台内部设置有光纤绕制器,伽马辐射源、掩模板和光纤绕制器从上至下依次相对设置;所述的光纤绕制器包括:光纤盘和位于光纤盘上方左右两侧水平设置的滚轴,其中:光纤盘上的光纤绕过两根滚轴呈水平状态。
地址 200240 上海市闵行区东川路800号