发明名称 微型机电系统装置及其制造方法
摘要 本发明公开一种微型机电系统(MEMS)装置及其制造方法,所述MEMS装置包含硅衬底和结构电介质层。所述硅衬底具有腔。所述结构电介质层设置在所述硅衬底上。所述结构电介质层具有位于所述硅衬底的所述腔上方的空间并且在所述空间内容纳多个结构元件,所述结构元件包含:导电背板,其位于所述硅衬底上方,具有多个通气孔以及位于所述导电背板上部的多个突起结构;以及隔膜,其位于所述导电背板上方一定距离处,其中室形成于所述隔膜与所述导电背板之间,并且通过所述通气孔连接到所述硅衬底的所述腔。所述隔膜的第一侧暴露于所述室中且面向所述导电背板的所述突起结构,并且所述隔膜的第二侧暴露于环境空间中。
申请公布号 CN103663345B 申请公布日期 2016.09.14
申请号 CN201310027382.2 申请日期 2013.01.24
申请人 鑫创科技股份有限公司 发明人 谢聪敏;李建兴;刘志成
分类号 B81B7/00(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I 主分类号 B81B7/00(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陈小雯
主权项 一种微型机电系统装置,包括:硅衬底,所述硅衬底具有腔;以及结构电介质层,其设置在所述硅衬底上,其中所述结构电介质层具有位于所述硅衬底的所述腔上方的空间并且在所述空间内容纳多个结构元件,所述结构元件包括:导电背板,其位于所述硅衬底上方,具有多个通气孔以及位于所述导电背板上部的多个突起结构,所述多个突起结构是由所述结构电介质层在所述导电背板上的残留部分所构成,且位于所述导电背板的导电层上;以及隔膜,其位于所述导电背板上方一定距离处,其中室形成于所述隔膜与所述导电背板之间,并且通过所述通气孔连接到所述硅衬底的所述腔,其中所述隔膜的第一侧暴露于所述室中且面向所述导电背板的所述突起结构,并且所述隔膜的第二侧暴露于环境空间中。
地址 中国台湾新竹县