发明名称 太赫兹探测器参数测量装置及测量方法
摘要 本发明提出一种太赫兹探测器参数测量装置及测量方法,用于测量各种太赫兹探测器的响应度等参数。本发明采用具有绝对响应度的标准太赫兹探测器和待测太赫兹探测器比对测量的方法:参考太赫兹辐射源的太赫兹辐射,与液氮制冷黑体的背景辐射,被斩光片调制成周期性变化的太赫兹辐射信号,在一个周期内交替入射到光学系统,最终入射到标准太赫兹探测器或待测太赫兹探测器上,转换为周期性变化的电压信号,再经过锁相放大器处理得到测量电压信号;根据由标准太赫兹探测器的绝对响应度值计算得到待测太赫兹探测器的响应度、噪声等效功率等参数。本发明装置放置在液氮制冷的低温真空背景通道中,大大降低了背景噪声对太赫兹探测器参数准确测量的影响。
申请公布号 CN104729691B 申请公布日期 2016.09.14
申请号 CN201510133838.2 申请日期 2015.03.25
申请人 西安应用光学研究所 发明人 李宏光;杨鸿儒;薛战理;袁良;康登魁;于东钰;卢飞;韩占锁;常伟军;腾国奇
分类号 G01J1/00(2006.01)I 主分类号 G01J1/00(2006.01)I
代理机构 西北工业大学专利中心 61204 代理人 陈星
主权项 一种太赫兹探测器参数测量装置,其特征在于:包括光源系统、光学系统、探测系统和数据处理模块;所述光源系统包括参考太赫兹源、低温辐射黑体;光学系统包括将太赫兹辐射调制成周期性变化方波的斩光片、将太赫兹辐射准直为平行光的离轴抛物面镜、可变光阑、真空低温背景通道;探测系统包括标准太赫兹探测器、待测太赫兹探测器和锁相放大器;光源系统、光学系统中除了真空低温背景通道的其他部件均在真空低温背景通道内;参考太赫兹源以及低温辐射黑体的发光位置均在离轴抛物面镜的焦点上;斩光片位于光源系统与离轴抛物面镜的光路上,斩光片按照设定频率旋转,交替将参考太赫兹源的辐射信号与低温辐射黑体的辐射参考信号引入光路;离轴抛物面镜的出射平行光射入可变光阑,可变光阑实现射入标准太赫兹探测器和待测太赫兹探测器的光束孔径相同;标准太赫兹探测器以及待测太赫兹探测器的输出信号经锁相放大器输入给数据处理模块;光学系统中还包括有可移动的用于会聚太赫兹辐射的太赫兹透镜,当待测太赫兹探测器内部无光锥时,太赫兹透镜移入离轴抛物面镜与可变光阑之间的光路中。
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