基板处理装置以及基板处理方法

摘要

一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置具有：腔室；基板保持旋转单元，在腔室内将基板保持为水平并使其旋转；处理液供给单元，向所保持的基板部喷出处理液；温度测定单元，测定腔室内气温及所喷出的处理液的温度中至少一个；温度调整单元，对腔室内气温及所喷出的处理液的温度中至少一个变更；存储单元，存储示出气温和处理液的温度间的对应关系的映射图，该对应关系被设定为，与某气温对应的处理液的温度设定为低于该气温；温度控制单元，基于温度测定单元的测定值和映射图设定腔室内的气温或从处理液供给单元喷出的处理液的温度的目标值，控制温度调整单元使腔室内的气温或从处理液供给单元喷出的处理液的温度接近目标值。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，具有：腔室；基板保持旋转单元，在上述腔室内将基板保持为水平，并使该基板围绕穿过该基板的铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给单元，向被上述基板保持旋转单元保持的基板的中央部喷出处理液；温度测定单元，测定上述腔室内的气温以及从上述处理液供给单元喷出的处理液的温度中的至少一个；温度调整单元，对上述腔室内的气温以及从上述处理液供给单元喷出的处理液的温度中的至少一个进行变更；存储单元，存储有示出气温、处理液的温度和处理的均匀性之间的对应关系的存储信息，该对应关系被设定为，与某气温对应的处理液的温度低于该气温；温度控制单元，基于上述温度测定单元的测定值和上述存储信息，来设定上述腔室内的气温或者从上述处理液供给单元喷出的处理液的温度的目标值，并且，通过控制上述温度调整单元，使上述腔室内的气温或者从上述处理液供给单元喷出的处理液的温度与上述目标值一致。