用于消除遮蔽框架的气体限制器组件

摘要

本公开涉及一种气体限制器组件，所述气体限制器组件被设计成通过限制气流并改变在基板边缘区域附近的局部气流分布来降低不均匀的沉积速率。所述气体限制器组件的材料、尺寸、形状和其他特征可基于处理要求以及相关联的沉积速率而变化。在一个实施方式中，一种用于处理腔室的气体限制器组件包括气体限制器，所述气体限制器被配置成减少气流并且补偿基板边缘区域上的较高沉积速率。所述气体限制器组件还包括覆盖件，所述覆盖件设置在所述气体限制器下方。所述覆盖件被配置成防止基板支撑件暴露于等离子体下。

主权项

一种用于处理腔室的气体限制器组件，所述气体限制器组件包括：气体限制器，所述气体限制器被配置成围绕基板设置；以及覆盖件，所述覆盖件设置在所述气体限制器下方并且在所述气体限制器与配置成将设置有所述基板的位置之间。