一种PECVD镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种PECVD镀膜设备，包括反应室、传送装置和冷却室，所述反应室和传送装置设置在冷却室顶部，所述反应室和传送装置连接部底端通过铰接件连接有挡板，所述冷却室一侧设置有控制器，所述冷却室顶部设置有冷却装置，所述反应室顶部通过管道固定有真空泵，所述真空泵出口设置有真空阀，所述反应室内部顶端设置有温度传感器，所述反应室内部上端固定有发热器，所述反应室内侧底端设置有特气管路，所述特气管路底端传送装置顶端设置有石墨舟，所述石墨舟内部设置有方格孔。该产品结构简单，成本低，操作方便，多组同时操作，反应均匀，节省步骤，减少工艺时间，提高工作效率。

主权项

一种PECVD镀膜设备，包括反应室（8）、传送装置（9）和冷却室（11），所述反应室（8）和传送装置（9）设置在冷却室（11）顶部，其特征在于：所述反应室（8）和传送装置（9）连接部底端通过铰接件连接有挡板（10），所述冷却室（11）一侧设置有控制器（13），所述控制器（13）与传送装置（9）电性连接，所述冷却室（11）顶部设置有冷却装置（12），所述冷却装置（12）与控制器（13）电性连接，所述反应室（8）顶部通过管道固定有真空泵（7），所述真空泵（7）出口设置有真空阀（6），所述真空阀（6）与控制器（13）电性连接，所述反应室（8）内部顶端设置有温度传感器（5），所述温度传感器（5）与控制器（13）电性连接，所述反应室（8）内部上端固定有发热器（4），所述发热器（4）与控制器（13）电性连接，所述反应室（8）内侧底端设置有特气管路（3），所述特气管路（3）底端传送装置（9）顶端设置有石墨舟（1），所述石墨舟（1）内部设置有方格孔（2）。