| 发明名称 | 聚吡咯烷酮抛光组合物和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供抛光组合物，其包含吡咯烷酮聚合物、氨基膦酸、四烷基铵盐和水，其中所述组合物具有7至11.7的pH。本发明进一步提供使用这样的抛光组合物抛光基材、尤其是含硅基材的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN104781365B | 申请公布日期 | 2016.09.07 |
| 申请号 | CN201380057978.5 | 申请日期 | 2013.09.04 |
| 申请人 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 发明人 | N.纳古布桑特 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉;王华芹 |
| 主权项 | 抛光组合物，其包含：(a)0.01重量％至0.1重量％的吡咯烷酮聚合物；(b)0.05重量％至2重量％的氨基膦酸；(c)0.01重量％至5重量％的四烷基铵盐；和(d)水，其中所述组合物具有7至11.7的pH。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||