靶材背管的磁铁配置、包括所述磁铁配置的靶材背管、圆柱状靶材组件及溅射系统

摘要

本文关于用于溅射系统的磁铁配置(800,900,1000)，其中磁铁配置适于溅射系统的可旋转靶材(126a,126b)并包含：第一磁铁元件(810,910,1010)，所述第一磁铁元件沿第一轴(X)延伸；第二磁铁元件(820,920,1020)，所述第二磁铁元件环绕第一磁铁元件与第一平面(A)对称地设置；其中第二磁铁元件包含至少一个扇区(826,827,926,927,1028)，所述至少一个扇区与第一平面相交；且其中至少一个扇区的磁轴(822,922,1022)相对第二平面(B)而倾斜，所述第二平面与第一轴(X)正交。此外，本文关于用于溅射系统的可旋转靶材的靶材背管、用于溅射系统的圆柱状可旋转靶材及溅射系统。

主权项

一种用于溅射系统的磁铁配置(800,900,1000)，其中所述磁铁配置适于溅射系统的可旋转靶材(126a,126b)并包括：第一磁铁元件(810,910,1010)，所述第一磁铁元件沿第一轴(X)延伸；第二磁铁元件(820,920,1020)，所述第二磁铁元件环绕所述第一磁铁元件与第一平面(A)对称地设置；其中所述第二磁铁元件包含至少一个扇区(826,827,926,927,1028)，所述至少一个扇区与所述第一平面相交；且其中所述至少一个扇区的磁轴(822,922,1022)相对第二平面(B)倾斜，所述第二平面与所述第一轴(X)正交。