发明名称 |
一种抗划伤高透光高精度的电阻屏 |
摘要 |
本实用新型公开了一种抗划伤高透光高精度的电阻屏,该电阻屏包括化学强化玻璃层,设置在化学强化玻璃层上的下导电玻璃层,以及设置在下导电玻璃层;上导电玻璃层的底部设有若干向下凸起的呈条形的ITO导电涂层;ITO导电涂层的两端分别设有一条第一银电极,且两条第一银电极相互平行;第一银电极的中部分别设有一条向外延伸的第二银电极;上导电玻璃层的上表面设有富硅氧化硅层,抗划伤层的上表面设有硅复合树脂层。 |
申请公布号 |
CN205563529U |
申请公布日期 |
2016.09.07 |
申请号 |
CN201620108729.5 |
申请日期 |
2016.02.03 |
申请人 |
成都伟易达科技有限公司 |
发明人 |
蔡光德 |
分类号 |
G06F3/045(2006.01)I |
主分类号 |
G06F3/045(2006.01)I |
代理机构 |
成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 |
代理人 |
李蕊 |
主权项 |
一种抗划伤高透光高精度的电阻屏,包括化学强化玻璃层,设置在所述化学强化玻璃层上的下导电玻璃层,以及设置在所述下导电玻璃层上部的上导电玻璃层;其特征在于,所述上导电玻璃层的底部设有若干向下凸起的呈条形的ITO导电涂层;所述ITO导电涂层的两端分别设有一条第一银电极,且两条第一银电极相互平行;所述第一银电极的中部分别设有一条向外延伸的第二银电极;所述上导电玻璃层的上表面设有富硅氧化硅层,所述抗划伤层的上表面设有硅复合树脂层。 |
地址 |
611130 四川省成都市温江区成都海峡两岸科技产业开发园蓉台大道南段138号 |