| 发明名称 |
原子層堆積のための装置及びプロセス |
| 摘要 |
Provided are atomic layer deposition apparatus and methods including multiple gas distribution plates including stages for moving substrates between the gas distribution plates. |
| 申请公布号 |
JP5989682(B2) |
申请公布日期 |
2016.09.07 |
| 申请号 |
JP20130556854 |
申请日期 |
2012.03.01 |
| 申请人 |
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ |
发明人 |
ユドフスキー， ジョゼフ |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
