| 发明名称 | 抛光浆液和使用其抛光衬底的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抛光浆液和使用其抛光衬底的方法。根据一例示性实施例的浆液包含：经配置以执行抛光并且包含具有正ζ电位的粒子的磨料；经配置以分散所述磨料的分散剂；经配置以氧化钨的表面的氧化剂；经配置以促进所述钨的氧化的催化剂；以及经配置以控制抛光选择性并且包含含羧基的有机酸的选择性控制剂。根据所述例示性实施例的浆液，所述钨与所述绝缘层之间的抛光选择性可以通过抑制所述绝缘层的抛光速率来改良。 | ||
| 申请公布号 | CN105925198A | 申请公布日期 | 2016.09.07 |
| 申请号 | CN201610105318.5 | 申请日期 | 2016.02.25 |
| 申请人 | 优备材料有限公司 | 发明人 | 朴珍亨 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 李艳;臧建明 |
| 主权项 | 一种用于抛光钨的浆液，包括：经配置以执行抛光并且包含具有正ξ电位的粒子的磨料；经配置以分散所述磨料的分散剂；经配置以氧化所述钨的表面的氧化剂；经配置以促进所述钨的氧化的催化剂；以及经配置以控制抛光选择性并且包含含羧基的有机酸的选择性控制剂。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市处仁区阳智面鹤村路10 | ||