发明名称 一种西瓜的高产栽培方法
摘要 本发明公开了一种西瓜的高产栽培方法,所述栽培方法包括:栽培地选择整地施基肥,条播,田间管理及追肥,病虫害防治等;本发明的栽培方法在播种前施撒沤锯末与石灰粉混合物进行灭杀地下病细菌及增强土壤疏松及保水性能,减少病虫害对西瓜的侵害,以及播种时用雄黄拌种及覆盖草木灰,提高出苗率,出苗存活率达96%,再通过合理施基肥及追肥,科学的田间管理,同时配合物理及天敌防治病虫害等,使西瓜苗期健壮,抗逆性强,果实个大,外形正,单重达10千克以上,亩增产15‑22%,品质好,产量高,收益显著增加。
申请公布号 CN105917926A 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201610293296.X 申请日期 2016.05.06
申请人 吴敏 发明人 吴敏
分类号 A01G1/00(2006.01)I 主分类号 A01G1/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种西瓜的高产栽培方法,其特征在于,所述栽培方法包括如下:<img file="870770dest_path_image001.GIF" wi="19" he="17" />选择偏酸性沙壤土,在初春时对土地深翻2‑3次,深度为30‑35mm,间隔为一个月,每亩施放腐熟有机肥2500‑3000千克,复合肥30千克,并撒沤锯末与石灰粉混合物80‑90千克,混合重量比2:3,整平耙细作畦,畦宽3‑3.5米,畦沟深0.4‑0.5米,畦沟宽40‑50厘米,并在畦面上起双垄,垄宽0.8‑1米,垄高0.3米,垄间留浅沟,宽0.3米,深0.1米;<img file="dest_path_image002.GIF" wi="19" he="17" />在畦面的双垄上进行穴植,株距0.7‑0.8米,亩植500‑560株,行距大于1.5米,播种深度4‑4.5厘米,每穴种植1‑2颗,种子要平放,并覆薄层草木灰,然后浇透水,等待出苗;<img file="351692dest_path_image003.GIF" wi="19" he="17" />除去田间杂草,定根保持土壤湿润,选晴天的早晨、傍晚浇水,浇水量要小,浇水要勤,每亩浇水1000‑1200千克,浇水间隔2‑3天,坐果前摘除侧蔓,每株西瓜采取株距范围内环形引蔓,同时主蔓相隔7‑8节进行压蔓;<img file="dest_path_image004.GIF" wi="19" he="17" />从播种到长至2片真叶时进行第一次追肥,15天后进行第二次追肥,每次追肥量为300‑400千克/亩沼液后,并喷洒1000‑1500千克水,在1‑2个瓜坐果后,应重点追施15千克三元素复合肥和22千克速效氮肥进行混合追肥,并对西瓜叶面喷水1000‑1400千克;<img file="193746dest_path_image005.GIF" wi="19" he="18" />西瓜进入抽蔓期,就浇1‑2次透水,畦沟内应有积水,开花期保持土壤含水分30‑40%,果实膨大期保持土壤水分65‑70%;<img file="dest_path_image006.GIF" wi="19" he="17" />在西瓜生长期采用物理防治及利用天敌防治病虫害,降低病虫害侵扰培育壮苗。
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