一种阵列基板及其制作方法、显示装置

摘要

本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板的有源层图案和像素电极为通过一次构图工艺形成。通过本发明的技术方案，能够减少制备阵列基板时构图工艺的次数，提高生产效率，降低制作成本。

主权项

一种阵列基板的制作方法，所述阵列基板包括薄膜晶体管和像素电极，其特征在于，所述制作方法包括：在一衬底基板上形成透明半导体膜层；对所述透明半导体膜层进行第一次构图工艺和掺杂工艺，形成包括薄膜晶体管的有源层图案和像素电极的图案；所述对所述透明半导体膜层进行第一次构图工艺和掺杂工艺，形成包括薄膜晶体管的有源层图案和像素电极的图案的步骤，包括：在透明半导体膜层上涂覆光刻胶；利用半色调或灰阶调掩膜版对光刻胶进行曝光，显影，形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶不保留区域，其中，光刻胶完全保留区域至少对应薄膜晶体管的有源层图案所在的区域，光刻胶部分保留区域至少对应像素电极所在的区域，光刻胶不保留区域对应其他区域；通过刻蚀工艺去除光刻胶不保留区域的透明半导体膜层；通过灰化工艺去除光刻胶部分保留区域的光刻胶，露出该区域的透明半导体膜层；对光刻胶部分保留区域的透明半导体膜层进行掺杂工艺，用于提高该区域透明半导体膜层的导电率，形成像素电极；剥离剩余的光刻胶，形成薄膜晶体管的有源层图案。