发明名称 一种双向限流器件及其制备方法
摘要 一种双向限流器件,由下电极、介质层和上电极组成并构成叠层结构,其中介质层为氧化钒薄膜和氧化铜薄膜叠层结构;其制备方法是,首先以硅片为衬底制备二氧化硅绝缘层,再利用离子束溅射的方法制备Ti粘附层;在Ti粘附层上采用磁控溅射工艺或蒸发工艺制备下电极;在下电极上采用磁控溅射或热氧化的方法制备氧化铜薄膜;在氧化铜薄膜上采用直流溅射或射频溅射法沉积氧化钒薄膜;在氧化钒薄膜上采用磁控溅射工艺或电子束蒸发工艺制备上电极。本发明的优点是:该双向限流器件介质层为氧化钒/氧化铜叠层结构,具有双向限流特性,该器件可应用在阻变存储器领域,通过与阻变存储器件串联,可以作为单极性的选择器件或双极性的限流器件。
申请公布号 CN103794621B 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201410078446.6 申请日期 2014.03.05
申请人 天津理工大学 发明人 张楷亮;孙阔;王芳;王宝林;孙文翔;陆涛;鉴肖川
分类号 H01L27/24(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L27/24(2006.01)I
代理机构 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人 侯力
主权项 一种双向限流器件,其特征在于:由下电极、介质层和上电极组成并构成叠层结构,其中介质层为氧化钒薄膜和氧化铜薄膜叠层结构,各层薄膜的厚度分别为:下电极50‑200nm、氧化铜1‑200nm、氧化钒5‑200nm、上电极50‑200nm;上下电极材料为导电金属、金属合金或导电金属化合物,其中导电金属为Al、Ti、Ni、Cu、Ag、W、Au或Pt;金属合金为Pt/Ti、Cu/Ti、Cu/Au或Cu/Al且比例任意;导电金属化合物为TiN、TaN、ITO或AZO。
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