| 发明名称 | 共溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C人工晶体单色器 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种共溅射制备化合物Mo<sub>2</sub>C和化合物B<sub>4</sub>C作为材料组合的人工晶体X光单色器，该单色器包括基底，其上面依次层叠有打底层、共溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C周期多层膜人工晶体及保护层，其溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C周期多层膜人工晶体(5)由共溅射Mo<sub>2</sub>C膜(3)和B<sub>4</sub>C膜(4)周期性构成。本实用新型采用高熔点、相态稳定的共溅射化合物Mo<sub>2</sub>C作为多层膜人工晶体的吸收层，制作出共溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C周期多层膜人工晶体用作单色器，克服了单质与B<sub>4</sub>C等传统多层膜人工晶体的热稳定性差的缺点。同时，在X光波段的共溅射Mo<sub>2</sub>C的光学常数和Mo接近，共溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C周期多层膜人工晶体单色器保持了单质与B<sub>4</sub>C多层膜人工晶体较好的光学性能。因此，兼顾光学性能和热稳定性，适用于同步辐射光源、X光荧光分析等工作温度高的X光应用。 | ||
| 申请公布号 | CN205562038U | 申请公布日期 | 2016.09.07 |
| 申请号 | CN201620151163.4 | 申请日期 | 2016.02.29 |
| 申请人 | 苏州宏策光电科技有限公司 | 发明人 | 朱京涛;朱圣明;金长利;朱运平 |
| 分类号 | G01J3/26(2006.01)I | 主分类号 | G01J3/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京高航知识产权代理有限公司 11530 | 代理人 | 赵永强 |
| 主权项 | 一种共溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C多层膜人工晶体单色器，其特征在于：该单色器包括基底(1)，其上面依次层叠有打底层(2)、共溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C周期多层膜人工晶体(5)及保护层(6)，其中共溅射Mo<sub>2</sub>C/B<sub>4</sub>C周期多层膜人工晶体(5)由共溅射Mo<sub>2</sub>C膜(3)和B<sub>4</sub>C膜(4)周期性构成。 | ||
| 地址 | 215400 江苏省苏州市太仓市浏河镇紫薇路1号 | ||