发明名称 | 一种刻蚀掺铝氧化锌薄膜的方法 | ||
摘要 | 一种刻蚀掺铝氧化锌薄膜的方法,利用加速器加速的粒子轰击刻蚀掺铝氧化锌薄膜(AZO)表面,步骤如下:第一步,将装有待刻蚀的掺铝氧化锌(AZO)薄膜的支架置于磁控溅射设备的真空腔室中,抽真空至真空腔室真空度低于10<sup>‑3</sup>帕;第二步,向真空腔室通入惰性气体,惰性气体的流速为10‑20sccm;第三步,调节真空腔室的抽气阀门,使真空腔室的气压为0.5‑2.0Pa;第四步,打开阴极灯丝电源、接着打开加速极电源,最后打开中和灯丝电源,使电离惰性原子的阴极灯丝电流为0.1‑2A,中和惰性离子的中和灯丝电流为5‑15A。AZO薄膜上的Zn和O原子被轰击而离开薄膜,被轰击而离开薄膜的原子不断增加,实现对AZO薄膜的刻蚀。 | ||
申请公布号 | CN105931960A | 申请公布日期 | 2016.09.07 |
申请号 | CN201610458461.2 | 申请日期 | 2016.06.22 |
申请人 | 中国科学院电工研究所 | 发明人 | 杜忠明;刘向鑫;屈飞 |
分类号 | H01L21/3213(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3213(2006.01)I |
代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人 | 关玲 |
主权项 | 一种刻蚀掺铝氧化锌薄膜的方法,其特征在于:所述刻蚀掺铝氧化锌薄膜的方法利用加速器加速的粒子轰击刻蚀掺铝氧化锌薄膜(AZO)表面;所述的刻蚀方法步骤如下:第一步,将装有待刻蚀的掺铝氧化锌(AZO)薄膜的支架置于磁控溅射设备的真空腔室中,抽真空至真空腔室真空度低于10<sup>‑3</sup>帕;第二步,向真空腔室通入惰性气体,惰性气体的流速为10‑20sccm;第三步,调节真空腔室的抽气阀门,使真空腔室的气压为0.5‑2.0Pa;第四步,打开阴极灯丝电源、接着打开加速极电源,最后打开中和灯丝电源,使电离惰性原子的阴极灯丝电流为0.1‑2A,中和惰性离子的中和灯丝电流为5‑15A。AZO薄膜上的Zn和O原子被轰击而离开薄膜,被轰击而离开薄膜的原子不断增加,实现对AZO薄膜的刻蚀。 | ||
地址 | 100190 北京市海淀区中关村北二条6号 |