发明名称 一种微纳PSS制备用软膜结构
摘要 本实用新型涉及一种微纳PSS制备用软膜结构,所述软膜结构包括一软膜主体,该软膜主体呈长方体状,在软膜主体的长轴方向的一侧设置有梳齿组; 所述梳齿组由若干并列等距分布的梳齿共同构成,在相邻的两个梳齿所形成的凹槽的内壁上还设置有高反射金属层,且高反射金属层覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽。本实用新型的优点在于:本实用新型中的软膜结构通过在相邻的梳齿所形成的凹槽的内壁增设高反射金属层,在进行曝光处理时,光在进过软膜时,部分光会被高反射金属层所阻挡,即可形成被曝光区域未曝光区,无需软膜与胶深入接触,提高了软膜的使用寿命。
申请公布号 CN205564803U 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201620141889.X 申请日期 2016.02.26
申请人 海迪科(南通)光电科技有限公司 发明人 张伟;孙智江
分类号 H01L33/22(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I 主分类号 H01L33/22(2010.01)I
代理机构 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 代理人 滑春生
主权项 一种微纳PSS制备用软膜结构,其特征在于:  所述软膜结构包括一软膜主体,该软膜主体呈长方体状,在软膜主体的长轴方向的一侧设置有梳齿组;   所述梳齿组由若干并列等距分布的梳齿共同构成,在相邻的两个梳齿所形成的凹槽的内壁上还设置有高反射金属层,且高反射金属层覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽。
地址 226500 江苏省南通市如皋市桃园镇育华村34组