发明名称 一种三维表面顺形或共形图案的制备方法
摘要 本发明公开了一种三维表面顺形或共形图案的制备方法,属于微制造领域。其包括:S1将薄膜粘附在辅助基底上;S2采用激光、切割或者蚀刻方式将薄膜加工成预定的图案,获得图案化薄膜辅助基底;S3在塑料薄膜上添加缓冲层;S4使图案化薄膜接触并粘结在所述缓冲层上;S5分离出辅助基底;S6对图案化薄膜目标基底加热,待塑料薄膜塑性增大至可在压力下变形后,将图案化薄膜目标基底移至三维模具上,利用真空压力吸附或高压,使图案化薄膜目标基底变形后贴附在三维模具表面,成为与三维模具表面形貌相同的三维表面顺形或共形图案系统。本发明方法提高了三维表面顺形或共形图案的生产效率、降低了其生产成本。
申请公布号 CN105905867A 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201610257442.3 申请日期 2016.04.25
申请人 华中科技大学 发明人 吴志刚;彭鹏;张硕
分类号 B81C3/00(2006.01)I;H01Q1/38(2006.01)I 主分类号 B81C3/00(2006.01)I
代理机构 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人 李佑宏
主权项 一种三维表面顺形或共形图案的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:S1:将薄膜粘附在辅助基底上;S2:采用激光、切割或者蚀刻将所述薄膜加工成预定的图案,获得图案化薄膜辅助基底;S3:在塑料薄膜上添加缓冲层,获得目标基底;S4:将图案化薄膜辅助基底与所述目标基底相对压合,使图案化薄膜接触并粘结在所述缓冲层上;S5:分离出辅助基底,完成图案化薄膜由辅助基底到目标基底的转印过程,获得图案化薄膜目标基底;S6:对所述图案化薄膜目标基底加热,待所述塑料薄膜塑性增大至可在真空压力下变形后,将所述图案化薄膜目标基底移至三维模具上,所述三维模具位于压力平台上,利用真空压力吸附或高压,使图案化薄膜目标基底变形后贴附在三维模具表面,成为与三维模具表面形貌相同的三维表面顺形或共形图案。
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