| 发明名称 | 一种真空吸附平台 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种真空吸附平台，包括真空吸盘和底座，真空吸盘与底座能够形成真空腔，所述真空吸盘包括第一吸盘、第二吸盘和隔膜，第二吸盘邻近所述真空腔；第一吸盘上设置多个第一吸盘孔，第二吸盘上设置多个第二吸盘孔，所述第一吸盘孔、第二吸盘孔和真空腔相连通；隔膜设置于第一吸盘和第二吸盘之间，并隔离所述第一吸盘孔与第二吸盘孔，可以避免真空吸盘上放置基板之外的区域破真空，在吸附异形基板时，不但不会出现盲区，吸附效果得到保证，而且无需额外覆盖吸附区域之外的区域，使用方便，能够大幅提高基板运载作业效率。 | ||
| 申请公布号 | CN205521462U | 申请公布日期 | 2016.08.31 |
| 申请号 | CN201620157351.8 | 申请日期 | 2016.03.01 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 蒋展望;王小文;郭海兵;刘川;李银海;金磊 |
| 分类号 | B25J15/06(2006.01)I;B65G47/91(2006.01)I | 主分类号 | B25J15/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 刘悦晗;陈源 |
| 主权项 | 一种真空吸附平台，包括真空吸盘和底座，真空吸盘与底座能够形成真空腔，其特征在于，所述真空吸盘包括第一吸盘、第二吸盘和隔膜，第二吸盘邻近所述真空腔；第一吸盘上设置多个第一吸盘孔，第二吸盘上设置多个第二吸盘孔，所述第一吸盘孔、第二吸盘孔和真空腔相连通；隔膜设置于第一吸盘和第二吸盘之间，并隔离所述第一吸盘孔与第二吸盘孔。 | ||
| 地址 | 230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 | ||