| 发明名称 | 包括能原位缩合的化合物和遮挡UV辐射的试剂的化妆处理方法 | ||
| 摘要 | 包括能原位缩合的化合物和遮挡UV辐射的试剂的化妆处理方法本发明涉及皮肤的化妆处理的方法，其包括将以下施加至皮肤：-一种化合物或一组化合物A，其能够原位缩合并且显示出至少一种反应性官能团F<sub>A</sub>，其在缩合后是游离的；和-遮挡UV辐射的遮蔽剂C，其包括能通过与官能团F<sub>A</sub>反应形成共价键或物理(离子，氢)键的反应性官能团F<sub>C</sub>。 | ||
| 申请公布号 | CN103260596B | 申请公布日期 | 2016.08.31 |
| 申请号 | CN201080057748.5 | 申请日期 | 2010.12.15 |
| 申请人 | 莱雅公司 | 发明人 | H.萨迈因;G.卡辛;D.坎道;A.罗多特;F.拉洛雷特 |
| 分类号 | A61K8/35(2006.01)I;A61K8/41(2006.01)I;A61K8/58(2006.01)I;A61Q1/02(2006.01)I;A61Q1/08(2006.01)I;A61Q17/04(2006.01)I;A61Q19/04(2006.01)I;A61Q19/08(2006.01)I;A61K8/33(2006.01)I;A61K8/49(2006.01)I;A61K8/67(2006.01)I;A61K8/86(2006.01)I;A61Q19/00(2006.01)I | 主分类号 | A61K8/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 段家荣;林森 |
| 主权项 | 皮肤的化妆处理的方法，其包括向皮肤施加：‑一种化合物或一组化合物A，其能够原位缩合以形成材料并且显示出至少一种反应性官能团F<sub>A</sub>，其在缩合后是自由的；其中化合物A选自具有下式的化合物A：<img file="dest_path_image001.GIF" wi="171" he="79" />其中：R<sub>4</sub>代表卤素或OR'或R'<sub>1</sub>基团；R<sub>5</sub>代表卤素或OR''或R'<sub>2</sub>基团；R<sub>6</sub>代表卤素或OR'''或R'<sub>3</sub>基团；和R<sub>1</sub>，R<sub>2</sub>，R<sub>3</sub>，R'，R"，R'''，R'<sub>1</sub>，R'<sub>2</sub>和R'<sub>3</sub>彼此独立地代表直链或支链和饱和或不饱和烃基团，其任选地携带酸或胺基团，另外R<sub>1</sub>，R<sub>2</sub>，R'，R"和R'''可以另外表示氢，和基团R<sub>4</sub>，R<sub>5</sub>和R<sub>6</sub>中的至少两个不同于基团R'<sub>1</sub>，R'<sub>2</sub>和R'<sub>3</sub>，和其中官能团F<sub>A</sub>是胺；和‑遮挡UV辐射的遮蔽剂C，其包括能通过与官能团F<sub>A</sub>反应形成共价键或物理键的反应性官能团F<sub>C</sub>，并且该遮蔽剂C选自苯基苯并咪唑磺酸、对苯二亚甲基二樟脑磺酸、苯基二苯并咪唑四磺酸二钠和它们的混合物。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||