| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR DESIGN OF A METROLOGY TARGET |
| 摘要 |
메트롤로지 타겟 디자인의 방법이 설명된다. 상기 방법은 메트롤로지 타겟을 형성하거나, 그 형성을 측정하는 공정 파라미터의 섭동에 대한 메트롤로지 타겟 디자인의 파라미터의 민감도를 결정하는 단계; 및 공정 파라미터들 중 적어도 하나의 섭동이 곱해진 민감도의 합에 기초하여 메트롤로지 타겟 디자인의 견고성을 결정하는 단계를 포함한다. |
| 申请公布号 |
KR20160103131(A) |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
| 申请号 |
KR20167021003 |
申请日期 |
2014.12.04 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
CHEN GUANGQING;LIU WEI;VAN DER SCHAAR MAURITS |
| 分类号 |
G03F7/20;G01B11/00;G01B11/30 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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