发明名称 光半导体的制造方法、以及光半导体设备、氢生成设备和能量系统
摘要 本发明提供一种光半导体及其制造方法、以及光半导体设备、光触媒、氢生成设备和能量系统。本发明的光半导体的制造方法包括:混合工序,制作包含铌化合物和还原防止剂的混合物,该铌化合物至少在组成中含有氧;氮化工序,使所述混合物与氮化合物气体进行反应,从而使所述混合物氮化;和洗净工序,从通过所述氮化工序得到的试样中,利用洗净液溶解铌氮氧化物以外的化学种,分离出铌氮氧化物。本发明的光半导体实质上由铌氮氧化物构成,该铌氮氧化物具有斜锆石型结晶构造、且具有由组成式NbON表示的组成。
申请公布号 CN102686314B 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201180004738.X 申请日期 2011.11.28
申请人 松下知识产权经营株式会社 发明人 铃木孝浩;野村幸生;田村聪;羽藤一仁;谷口升;德弘宪一;宫田伸弘
分类号 B01J27/24(2006.01)I;B01J23/20(2006.01)I;B01J23/648(2006.01)I;B01J35/02(2006.01)I;C01B3/04(2006.01)I;C01G33/00(2006.01)I;H01M8/0656(2016.01)I 主分类号 B01J27/24(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汪惠民
主权项 一种光半导体的制造方法,其包括:混合工序,制作包含铌化合物和还原防止剂的混合物,该铌化合物至少在组成中含有氧;氮化工序,使所述混合物与氮化合物气体进行反应,从而使所述混合物氮化;和洗净工序,从通过所述氮化工序得到的物质中,利用洗净液溶解铌氮氧化物以外的化学种,分离出铌氮氧化物。
地址 日本国大阪府