一种等离子体增强化学气相沉积设备

摘要

本实用新型公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括反应腔体，内部设置有上极板和下级板；将下级板划包括沉积板和槽型机构，沉积板盖设于槽型机构的槽型开口上，形成一容置空间。将槽型机构的外表面覆盖一层由绝缘材料形成的绝缘壁，只保留沉积板通入射频电压产生等离子体进行镀膜，能够保证等离子体的均匀性和稳定性，使得薄膜材料均匀的沉积在基片上，能够提高制膜质量。

主权项

一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，包括：反应腔体，内部设置有上极板和下级板；所述上极板和所述下级板对应设置；所述下级板包括沉积板和槽型机构，所述沉积板盖设于所述槽型机构的槽型开口上，形成一容置空间，其中，所述槽型机构的外表面覆盖有由绝缘材料形成的绝缘壁。