发明名称 一种高边横向双扩散场效应晶体管
摘要 本发明公开了一种高边横向双扩散场效应晶体管,包括:P型衬底,N‑外延层,P+埋层,P+对通隔离,场氧,P‑top层,P‑体区,P‑体区接触P+,N+源电极,栅氧层,多晶硅栅电极,N+漏电极。所述P型衬底的上面是N‑外延层。所述N‑外延层的一侧设有P+埋层和P+对通隔离,用以隔离不同类型的器件。进一步,P‑体区和P+对通隔离之间设有另一个P‑体区,P‑体区内设有体区接触P+。P‑体区和P‑体区之间设有P‑top层。本发明源电极和衬底之间的雪崩击穿电压大大提高,即隔离性能有了很大的改进,满足了较高工作电压领域的应用。
申请公布号 CN104037231B 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201410271875.5 申请日期 2014.06.18
申请人 浙江大学 发明人 吴焕挺;韩雁;张世峰;张炜
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人 林松海
主权项 一种高边横向双扩散场效应晶体管,其特征在于,它包括:P型衬底(201),N‑外延层(202),P+埋层(203),P+对通隔离(204),场氧(205),P‑top层(206),第一P‑体区(207)和第二P‑体区(213),第一P‑体区接触P+(208)和第二P‑体区接触P+(214),N+源电极(209),栅氧层(210),多晶硅栅电极(211),N+漏电极(212);所述P型衬底(201)的上面是N‑外延层(202),所述N‑外延层(202)的一侧设有P+埋层(203)和P+对通隔离(204),用以隔离不同类型的器件,所述N‑外延层(202)的另一侧设有N+漏电极(212)和N+源电极(209),且N+源电极(209)位于N+漏电极(212)和P+对通隔离(204)之间,N+源电极(209)设置于第一P‑体区(207)之内,第一P‑体区(207)内还设有体区接触第一P‑体区接触P+(208),N+漏电极(212)和N+源电极(209)之间设有第一P‑top层(206),第一P‑top层(206)上方设有场氧(205),第一P‑体区(207)和上述第一P‑top层(206)之间区域上方设有栅氧层(210),栅氧层(210)上方设有多晶硅栅电极(211),第一P‑体区(207)和P+对通隔离(204)之间还设有第二P‑体区(213),第二P‑体区(213)内设有第二P‑体区接触P+(214),第二P‑体区(213)和第一P‑体区(207)之间设有第二P‑top层(206),第二P‑top层(206)上方设有场氧(205),场氧(205)上方设有多晶硅栅电极(211),第二P‑体区(213)和P+对通隔离(204)之间区域上方设有场氧(205)。
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