发明名称 曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法
摘要 一种曝光装置(100),其向标线片(R)照射照明光(IL),将在标线片(R)的图案面形成的图案转印至晶圆(W),该曝光装置(100)具有:标线片载台(RST),其保持标线片(R)并且移动;以及传感器(30),其对于保持在标线片载台(RST)的标线片(R)的所述图案面照射测量光,检测来自图案面的斑点。
申请公布号 CN105917441A 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201580004839.5 申请日期 2015.01.08
申请人 株式会社尼康 发明人 柴崎祐一
分类号 H01L21/027(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 陈伟;闫剑平
主权项 一种曝光装置,其向掩膜照射能量束,将在所述掩膜的图案面形成的图案转印至物体,所述曝光装置的特征在于,具有:掩膜载台,其保持所述掩膜并且移动;以及传感器,其对于保持在所述掩膜载台的所述掩膜的规定面照射测量光,获得来自所述规定面的与斑点有关的信息。
地址 日本东京都