发明名称 |
曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法 |
摘要 |
一种曝光装置(100),其向标线片(R)照射照明光(IL),将在标线片(R)的图案面形成的图案转印至晶圆(W),该曝光装置(100)具有:标线片载台(RST),其保持标线片(R)并且移动;以及传感器(30),其对于保持在标线片载台(RST)的标线片(R)的所述图案面照射测量光,检测来自图案面的斑点。 |
申请公布号 |
CN105917441A |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
申请号 |
CN201580004839.5 |
申请日期 |
2015.01.08 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
柴崎祐一 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
陈伟;闫剑平 |
主权项 |
一种曝光装置,其向掩膜照射能量束,将在所述掩膜的图案面形成的图案转印至物体,所述曝光装置的特征在于,具有:掩膜载台,其保持所述掩膜并且移动;以及传感器,其对于保持在所述掩膜载台的所述掩膜的规定面照射测量光,获得来自所述规定面的与斑点有关的信息。 |
地址 |
日本东京都 |