发明名称 无掩膜阻焊曝光机
摘要 本实用新型公开了一种无掩膜阻焊曝光机,包括至少一组激光器Ⅰ(11)和激光器Ⅱ(12),以及光束会聚器(2);所述激光器Ⅰ(11)置于光束会聚器(2)上方,所述激光器Ⅱ(12)置于光束会聚器(2)前方;所述光束会聚器(2)后方依次设有凸透镜Ⅰ(3)、凸透镜Ⅱ(4)、反射镜(5)和可旋转单像素成像单元(6);所述可旋转单像素成像单元(6)正下方设置基板(7)。本无掩膜阻焊曝光机取消了掩膜曝光的方式,取而代之的是扫描式无掩膜曝光。本无掩膜阻焊曝光机在节约成本的同时大幅度提高了曝光效率。
申请公布号 CN205539931U 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201620208338.0 申请日期 2016.03.18
申请人 江苏影速光电技术有限公司 发明人 平洁
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 徐州市三联专利事务所 32220 代理人 周爱芳
主权项 一种无掩膜阻焊曝光机,其特征在于,包括至少一组激光器Ⅰ(11)和激光器Ⅱ(12),以及光束会聚器(2);所述激光器Ⅰ(11)置于光束会聚器(2)上方,所述激光器Ⅱ(12)置于光束会聚器(2)前方;所述光束会聚器(2)后方依次设有凸透镜Ⅰ(3)、凸透镜Ⅱ(4)、反射镜(5)和可旋转单像素成像单元(6);所述可旋转单像素成像单元(6)正下方设置基板(7)。
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