发明名称 半导体激光元件
摘要 本发明提供一种适于高输出化的半导体激光元件。半导体激光二极管(70)包括:基板(1);及半导体叠层结构体(2),其通过结晶成长而形成在基板(1)上。半导体叠层结构体(2)包括:n型(Al<sub>x1</sub>Ga<sub>(1‑x1)</sub>)<sub>0.51</sub>In<sub>0.49</sub>P包覆层14及p型(AI<sub>x1</sub>Ga<sub>(1‑x1)</sub>)<sub>0.51</sub>In<sub>0.49</sub>P包覆层(17);n侧Al<sub>x2</sub>Ga<sub>(1‑x2)</sub>As导引层(15)及(p)侧Al<sub>x2</sub>Ga<sub>(1‑x2)</sub>As导引层(16),其等夹在这些包覆层(14)、(17)之间;以及活性层(10),其夹在这些导引层(15)、(16)之间。活性层(10)由包含Al<sub>y</sub>Ga<sub>(1‑y)</sub>As<sub>(1‑x3)</sub>P<sub>x3</sub>层的量子井层(221)与包含Al<sub>x4</sub>Ga<sub>(1‑x4)</sub>As层的阻障层(222)交替重复叠层复数个周期而构成。
申请公布号 CN102545057B 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201110424175.1 申请日期 2011.12.09
申请人 罗姆股份有限公司 发明人 野间亚树;阿久津稔;西冈义人
分类号 H01S5/343(2006.01)I;B82Y20/00(2011.01)I 主分类号 H01S5/343(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 章蕾
主权项 一种半导体激光元件,其包括:p型包覆层及n型包覆层;p侧导引层及n侧导引层,其等夹在上述p型包覆层及n型包覆层之间;以及活性层,其夹在上述p侧导引层及n侧导引层之间,且包含至少一个量子井层;且上述p型包覆层及n型包覆层分别包含(Al<sub>x1</sub>Ga<sub>(1-x1)</sub>)<sub>0.51</sub>In<sub>0.49</sub>P层(0≦x1≦1),上述p侧导引层及n侧导引层分别包含Al<sub>x2</sub>Ga<sub>(1-x2)</sub>As层(0≦x2≦1),上述量子井层包含Al<sub>y</sub>Ga<sub>(1-y)</sub>As<sub>(1-x3)</sub>P<sub>x3</sub>层(0&lt;x3&lt;1,0≦y≦0.3),上述Al<sub>y</sub>Ga<sub>(1-y)</sub>As<sub>(1-x3)</sub>P<sub>x3</sub>层具有P组成x3相对于As组成(1-x3)的比x3/(1-x3)满足1/9以上且1/4以下的组成,上述Al<sub>x2</sub>Ga<sub>(1-x2)</sub>As层具有满足x2≧0.4的组成。
地址 日本京都府