一种反应腔室和MOCVD设备

摘要

本发明公开一种反应腔室以及包括该反应腔室的MOCVD设备，该反应腔室包括托盘装置，所述托盘装置包括大托盘、旋转轴、小托盘、以及支撑盘；其中，所述旋转轴与所述大托盘的中心相连接并带动所述大托盘以所述旋转轴为中心进行旋转；所述大托盘上设置有托盘槽，所述托盘槽用于放置所述小托盘；所述支撑盘位于所述大托盘的下方，所述支撑盘和所述小托盘之间设置有滑动机构，以使得所述小托盘在随着大托盘进行公转的同时，在所述滑动机构的作用下进行自转。相对于现有技术中通过复杂的气路结构实现的公转和自转相结合的复合旋转机构，通过本发明实施例的复合旋转机构的结构更加简洁，加工和安装过程也更加简单、维护和使用都较为方便。

主权项

一种反应腔室，其特征在于，所述反应腔室包括托盘装置，所述托盘装置包括大托盘、旋转轴、小托盘、以及支撑盘；其中，所述旋转轴与所述大托盘的中心相连接并带动所述大托盘以所述旋转轴为中心进行旋转；所述大托盘上设置有托盘槽，所述托盘槽用于放置所述小托盘；所述支撑盘位于所述大托盘的下方，所述支撑盘和所述小托盘之间设置有滑动机构，以使得所述小托盘在随着大托盘进行公转的同时，在所述滑动机构的作用下进行自转；所述滑动机构包括第一滑动凹槽和滑动销，所述第一滑动凹槽形成于所述支撑盘的上表面，所述滑动销的上端与所述小托盘上中心位置之外的第一位置固定连接，所述滑动销的下端滑动连接至所述第一滑动凹槽，并且所述滑动销能够沿所述第一滑动凹槽进行运动；或者所述滑动机构包括第二滑动凹槽和滑动凸台，所述滑动凸台形成于所述支撑盘的上表面，所述第二滑动凹槽形成于所述小托盘的底部，且所述第二滑动凹槽形成于所述小托盘上中心位置之外的第一位置处，所述滑动凸台的上端与所述第二滑动凹槽滑动连接，当所述小托盘随大托盘的运动而运动时，所述滑动凸台能够沿所述第二滑动凹槽与所述第二滑动凹槽进行相对运动。