发明名称 |
一种线栅偏振器结构、显示基板母板及制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种线栅偏振器结构、显示基板母板及制作方法,该线栅偏振器结构的制作方法用于在一衬底基板上制作多个显示基板的线栅偏振器,包括:在所述衬底基板上形成偏振器材料薄膜;对所述偏振器材料薄膜进行构图,形成多个过渡图形,其中,每一所述显示基板对应一过渡图形,每一所述过渡图形覆盖对应的显示基板的有效显示区域;在所述过渡图形上形成纳米压印材料薄膜;采用纳米压印模板,对所述纳米压印材料薄膜进行压印,形成压印图形;将所述压印图形作为刻蚀掩膜版,对所述过渡图形进行刻蚀,形成线栅偏振器的线栅结构。本发明可以解决现有技术中采用纳米压印工艺形成显示基板母板上的多个线栅偏振器时,难以精确对位的问题。 |
申请公布号 |
CN105911628A |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
申请号 |
CN201610399629.7 |
申请日期 |
2016.06.07 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
黄华 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
黄灿;胡影 |
主权项 |
一种线栅偏振器结构的制作方法,用于在一衬底基板上制作多个显示基板的线栅偏振器,其特征在于,所述制作方法包括:在所述衬底基板上形成偏振器材料薄膜;对所述偏振器材料薄膜进行构图,形成多个过渡图形,其中,每一所述显示基板对应一过渡图形,每一所述过渡图形覆盖对应的显示基板的有效显示区域;在所述过渡图形上形成纳米压印材料薄膜;采用纳米压印模板,对所述纳米压印材料薄膜进行压印,形成压印图形;将所述压印图形作为刻蚀掩膜版,对所述过渡图形进行刻蚀,形成线栅偏振器的线栅结构。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |