| 发明名称 | 用于形成具有工程化空隙的制品的叠层转印膜 | ||
| 摘要 | 本公开涉及一种转印膜，所述转印膜包括具有第一表面和第二表面的牺牲模板层，所述第二表面具有与所述第一表面相对的结构化表面；适形于所述牺牲模板层的所述结构化表面的热稳定回填层，并且其中靠近所述第一表面的所述牺牲模板层的一部分比靠近所述第二表面的所述牺牲模板层的一部分具有更大的热稳定分子种类浓度。 | ||
| 申请公布号 | CN105917485A | 申请公布日期 | 2016.08.31 |
| 申请号 | CN201580004794.1 | 申请日期 | 2015.01.14 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 埃文·L·施瓦茨;贾斯廷·P·迈尔;奥勒斯特尔·小本森;特里·O·科利尔;迈克尔·本顿·弗里;罗伯特·F·卡姆拉特;米奇斯瓦夫·H·马祖雷克;戴维·B·奥尔森;K·拉维什·谢诺伊;马丁·B·沃克 |
| 分类号 | H01L51/52(2006.01)I;G02B6/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/52(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 王静;丁业平 |
| 主权项 | 一种转印膜，包括：具有第一表面和第二表面的牺牲模板层，所述第二表面具有与所述第一表面相对的结构化表面；适形于所述牺牲模板层的所述结构化表面的热稳定回填层；其中靠近所述第一表面的所述牺牲模板层的一部分比靠近所述第二表面的所述牺牲模板层的一部分具有更大的热稳定分子种类浓度。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||