发明名称 |
一种陶瓷平板膜的清洗装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种陶瓷平板膜的清洗装置,包括膜池,设于膜池中的陶瓷平板膜组件,压力传感器,流量传感器,清洗转刷机构,射流机构,产水泵,加药泵,控制机构等。本实用新型的清洗装置利用陶瓷膜片强度高的特点,通过采用清洁刷机械擦洗实现无曝气的陶瓷平板膜表面维护清洗,能够降低运行能耗,显著延长恢复清洗周期;通过采用高压射流、转刷机械擦洗、化学反冲洗配合使用对陶瓷膜组件进行恢复清洗,能够减少化学药剂使用量,降低运行成本。本实用新型适用于厌氧陶瓷膜生物反应器,扩大了陶瓷膜生物反应器的应用范围。 |
申请公布号 |
CN205517291U |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
申请号 |
CN201620230853.9 |
申请日期 |
2016.03.24 |
申请人 |
三达膜科技(厦门)有限公司;三达膜环境技术股份有限公司 |
发明人 |
姚萌;丘助国;洪昱斌;蓝伟光 |
分类号 |
B01D65/02(2006.01)I |
主分类号 |
B01D65/02(2006.01)I |
代理机构 |
厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 |
代理人 |
张松亭 |
主权项 |
一种陶瓷平板膜的清洗装置,包括膜池及设于膜池中的陶瓷平板膜组件;其特征在于:所述膜池还设有压力传感器及流量传感器;所述陶瓷平板膜组件为圆形、矩形或方形;其膜孔径为0.05~10μm,厚度为6~10mm;还包括:清洗转刷机构,设于陶瓷平板膜组件上方;该清洗转刷机构包括若干可移动的用于擦洗陶瓷平板膜组件表面的清洁刷;该若干清洁刷平行间隔排列成一列,相邻两清洁刷之间的距离为12~20cm;该清洁刷所在平面与陶瓷平板膜组件所在平面平行,且清洁刷与垂直方向形成0~60°夹角;该清洁刷之刷毛长度为相邻两陶瓷平板膜膜片间距的一半;射流机构,该射流机构包括用于向陶瓷平板膜组件表面喷射高压水的若干喷头;若干喷头设于陶瓷平板膜组件上方且平行间隔排布成一列,相邻两喷头之间的距离为相邻两陶瓷平板膜膜片间距的两倍;该喷头所在平面与陶瓷平板膜组件所在平面平行且两平面间的垂直距离为30~60cm;喷头的喷射方向与垂直方向形成0~60°夹角;该喷头之出水口为尖形喷嘴;产水泵,与膜池连通;加药泵,与膜池连通;控制机构,所述压力传感器、流量传感器、清洗转刷机构、射流机构、产水泵、加药泵均与该控制机构信号连接。 |
地址 |
361000 福建省厦门市集美区天凤路168-172号厂房四楼第六单元 |