发明名称 |
具有侧向光栅和纵向布喇格反射镜结构的半导体激光器 |
摘要 |
本发明公开一种具有侧向光栅和纵向布喇格反射镜结构的半导体激光器,沿激光器器件的垂直横向,包括上电级层、上接触层、电流阻挡层、上限制层、上波导层、有源层、下波导层、下限制层、衬底和下电级层;沿器件的纵向,包含增益谐振腔和后腔面分布反射镜,所述后腔面分布反射镜具有纵向布喇格反射镜结构DBR;沿器件的侧向,包括宽条电流注入侧向光栅区和电流限制区,所述宽条电流注入侧向光栅区,位于电流注入脊形区上。采用本发明的技术方案,既实现了半导体激光器的大功率输出,又能实现单模形式输出。 |
申请公布号 |
CN105914580A |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
申请号 |
CN201610530775.9 |
申请日期 |
2016.07.07 |
申请人 |
北京工业大学 |
发明人 |
李建军;廖翌如 |
分类号 |
H01S5/125(2006.01)I;H01S5/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01S5/125(2006.01)I |
代理机构 |
北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 |
代理人 |
张慧 |
主权项 |
一种具有侧向光栅和纵向布喇格反射镜结构的半导体激光器,其特征在于,沿激光器器件的垂直横向,包括上电级层(1)、上接触层(2)、电流阻挡层(3)、上限制层(4)、上波导层(5)、有源层(6)、下波导层(7)、下限制层(8)、衬底(9)和下电级层(10);沿器件的纵向,包含增益谐振腔(131)和后腔面分布反射镜(132),所述后腔面分布反射镜(132)具有纵向布喇格反射镜结构DBR(111);沿器件的侧向,包括宽条电流注入侧向光栅区(112)和电流限制区(12),所述宽条电流注入侧向光栅区(112)位于电流注入脊形区(11)上;其中,由宽条电流注入侧向光栅区(112)、具有DBR结构(111)的后腔面分布反射镜(132)以及上波导层(5)、有源层(6)、下波导层(7)实现大功率输出;由上限制层(4)、上波导层(5)、有源层(6)、下波导层(7)、下限制层(8)实现横向仅有基横模激射;由侧向光栅(112)实现侧向仅有基侧模激射;由纵向DBR结构(111)实现纵向仅有一个模式被选择激射。 |
地址 |
100124 北京市朝阳区平乐园100号 |