一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置

摘要

本实用新型涉及一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，与现有技术相比解决了吸盘定位销钉更换困难、定位衬底尺寸兼容性差的缺陷。本实用新型的滑槽A上安装有定位块组件A，滑槽B上均安装有定位块组件B，定位块组件A与定位块组件B两者结构相同；所述的定位块组件A包括定位滑块和紧定螺钉，定位滑块活动安装在滑槽A上且与滑槽A构成滑动配合，紧定螺钉安装在定位滑块上，定位滑块的上表面高于吸盘组件的上表面。本实用新型能够适用于所有标准尺寸衬底及非标衬底的吸盘定位，且定位调节更加简便。

主权项

一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，包括吸盘组件（1），其特征在于：所述的吸盘组件（1）上设有滑槽A（5）和滑槽B（6），滑槽A（5）和滑槽B（6）均位于吸盘组件（1）的半径上，滑槽A（5）至吸盘组件（1）圆心的延长线与滑槽B（6）至吸盘组件（1）圆心的延长线所形成的夹角为90度，滑槽A（5）上安装有定位块组件A，滑槽B（6）上均安装有定位块组件B，定位块组件A与定位块组件B两者结构相同；所述的定位块组件A包括定位滑块（2）和紧定螺钉（3），定位滑块（2）活动安装在滑槽A（5）上且与滑槽A（5）构成滑动配合，紧定螺钉（3）安装在定位滑块（2）上，定位滑块（2）的上表面高于吸盘组件（1）的上表面。