一种电子束物理气相沉积用稳定氧化锆陶瓷靶材及制备方法

摘要

本发明涉及一种电子束物理气相沉积用稳定氧化锆陶瓷靶材及制备方法，属于陶瓷材料制备领域。本发明以高纯氧化锆和氧化物稳定剂为原料，采用二步固相烧成法获得具有良好沉积性能的陶瓷靶材：通过高温固相合成以及球磨法制备晶相稳定、粒度均匀的陶瓷粉体原料，利用模压预压结合等静压进行高压成型，经尺寸精加工后，低温烧成EB‑PVD陶瓷靶材。本发明制备的陶瓷靶材化学成分准确、晶相稳定、高温体积变形小，微观晶粒尺寸均匀且小于5μm，满足EB‑PVD工艺无飞溅、所得涂层成分和性能稳定的技术要求。该二步固相烧成法高温烧成时间短，低温热处理靶材使能耗降低，制备过程工艺及设备简单、批次性能稳定好，可推广于工业化生产。

主权项

一种电子束物理气相沉积用稳定氧化锆陶瓷靶材，其特征在于，包括下列物料，按摩尔比计组分：10~20mol%YO_1.5、10~20mol%TaO_2.5，其余为氧化锆；或者10~20mol%YO_1.5、10~20mo%lTaO_2.5、1~6mol%NdO_1.5，其余为氧化锆；或者10~20mol%YO_1.5、10~20mol%TaO_2.5、1~6mol%SmO_1.5，其余为氧化锆；或者10~20mol%YO_1.5、10~20mol%TaO_2.5、1~6mol%GdO_1.5，其余为氧化锆；其中，氧化锆及氧化物稳定剂纯度高于99.9%;所述氧化物稳定剂YO_1.5与所述TaO_2.5共稳定时， TaO_2.5掺入量高于YO_1.51~3mol。