发明名称 | 固态成像装置及其制造方法以及电子设备 | ||
摘要 | 提供通过减少光学混色和/或Mg光斑来提高图像质量的固态成像装置及其制造方法以及电子设备。本发明包括:像素区域(23),在该像素区域(23)中排列有多个由光电转换部(PD)和像素晶体管(Tr)构成的像素(24);片上滤色器(42);片上微透镜(43);多层布线层(33),多层布线(32)经由层间绝缘模(31)而形成在该多层布线层(33)中;遮光膜(39),该遮光膜(39)经由绝缘层(36)形成在受光面(34)的像素边界上,光电转换部(PD)排列在该受光面(34)上。 | ||
申请公布号 | CN103545335B | 申请公布日期 | 2016.08.31 |
申请号 | CN201310537765.4 | 申请日期 | 2010.02.03 |
申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 丸山康;渡边一史 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人 | 曹正建;陈桂香 |
主权项 | 一种固态成像装置的制造方法,包括以下步骤:在衬底的表面侧上的表面区域形成多个受光部以及预设杂质区域,并在衬底的与所述表面侧相对的背面侧上的背面区域形成蚀刻阻挡层;在所述衬底的表面侧形成布线层,所述布线层由经由层间绝缘膜而形成的多层布线构成;从所述衬底的背面侧刻蚀所述背面区域至所述蚀刻阻挡层;形成从所述衬底的背面侧到达至预设深度的沟槽部;在形成于所述衬底中的沟槽部形成掩埋膜,所述掩埋膜的表面从所述衬底的背面侧突出预设高度,并将所述掩埋膜作为阻挡而将所述衬底弄薄;以及在去除所述掩埋膜之后向所述沟槽部中掩埋遮光膜。 | ||
地址 | 日本东京都 |