发明名称 |
掩膜板 |
摘要 |
本发明公开了一种掩膜板,包括设置在掩膜板透光区域中的能够减少透射光衍射的结构。本发明的掩膜板透光孔中设置有能够减少透射光衍射的结构,该结构通过控制透射光的衍射,使得在光刻胶上因曝光而产生的孔尽量不扩大,以保证刻蚀工艺后形成的过孔实现小型化,满足精细化布线的要求,有效提高液晶显示器分辨率。 |
申请公布号 |
CN104345544B |
申请公布日期 |
2016.08.31 |
申请号 |
CN201310328985.6 |
申请日期 |
2013.07.31 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
郭建 |
分类号 |
G03F1/80(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/80(2012.01)I |
代理机构 |
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 |
代理人 |
张颖玲;张振伟 |
主权项 |
一种掩膜板,其特征在于,包括设置在掩膜板透光区域中的能够减少透射光衍射的结构;所述结构为层叠透光膜,包含有重叠的多层透光膜,各层透光膜的透光孔尺寸依次递增或递减;或者,所述结构为衍射突起,所述掩膜板透光区域中包含一层或一层以上的衍射突起。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 |