光掩模、光掩模组、光掩模及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供光掩模、光掩模组、光掩模及显示装置的制造方法，即使是更细微化、集成度更高的显示装置，也能够以良好的成品率稳定地进行生产。一种具有转印用图案的光掩模，该转印用图案是对形成在透明基板上的半透光膜和遮光膜分别进行构图而得到的，其特征在于，所述转印用图案包含透光部、遮光部、半透光部以及半透光缘部，所述透光部与宽度为W(μm)的所述半透光缘部相邻，所述半透光缘部与所述遮光部相邻，并且0＜W≦0.3。

主权项

一种光掩模，其具有转印用图案，该转印用图案是对形成在透明基板上的半透光膜和遮光膜分别进行构图而得到的，该光掩模的特征在于，所述转印用图案包含透光部、遮光部、半透光部以及半透光缘部，所述透光部与宽度为W(μm)的所述半透光缘部相邻，所述半透光缘部与所述遮光部相邻，并且，0＜W≦0.3。