发明名称 电子元件用镀Sn材料
摘要 本发明的目的在于提供一种作为连接器、端子等的导电性弹簧材料具有低拔插性和良好的表面光泽的镀Sn材料,其特征在于,该镀Sn材料在铜或铜合金条的基体材料上具有实施了回流焊处理的Sn镀层,其中,回流焊Sn镀层由上侧的Sn层和下侧的Cu-Sn合金层构成,Sn镀层的厚度为0.2~0.8μm,镀Sn材料的轧制直角方向的表面粗糙度Ra为0.05μm以下,RSm为20μm以下,露出到最表面的Cu-Sn合金层的面积比为5~40%,从表面观察时的所述露出的Cu-Sn合金层的晶粒直径为3μm以下。
申请公布号 CN105908231A 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201610102853.5 申请日期 2016.02.24
申请人 JX金属株式会社 发明人 长野真之;山崎浩崇;中谷胜哉
分类号 C25D5/50(2006.01)I;C25D5/10(2006.01)I;C25D5/12(2006.01)I;C25D3/30(2006.01)I;C25D3/38(2006.01)I;C25D3/12(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;H01R13/03(2006.01)I 主分类号 C25D5/50(2006.01)I
代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 吕琳;朴秀玉
主权项 一种镀Sn材料,其特征在于,在铜或铜合金条的基体材料上具有实施了回流焊处理的Sn镀层,回流焊Sn镀层由上侧的Sn层和下侧的Cu‑Sn合金层构成,Sn镀层的厚度为0.2~0.8μm,镀Sn材料的轧制直角方向的表面粗糙度Ra为0.05μm以下,RSm为20μm以下,露出到最表面的Cu‑Sn合金层的面积比为5~40%,从表面观察时的所述露出的Cu‑Sn合金层的晶粒直径为3μm以下。
地址 日本东京都