碳纳米管阵列的电镀修饰方法

摘要

本发明公开了一种碳纳米管阵列的电镀修饰方法，其包括如下步骤，提供碳纳米管阵列，将其置于真空腔内，密闭真空腔，对真空腔进行抽气以降低真空腔内的压力，再向真空腔内注入去离子水，使碳纳米管阵列完全浸入去离子水中；继续抽气，当碳纳米管阵列的表面停止析出气泡时，停止抽气；向真空腔内注入空气，使内外压力平衡，然后将碳纳米管阵列取出；经过真空预处理的碳纳米管阵列置于电镀液中浸泡后进行电镀。本发明的碳纳米管阵列的电镀修饰方法采用了真空预处理工艺，使电镀液能够进入碳纳米管的内部，从而使碳纳米管的底部到顶部都均匀沉积一层金属纳米粒子，如此充分发挥了碳纳米管阵列的三维优势，大大提高了碳纳米管阵列的性能。

主权项

一种碳纳米管阵列的电镀修饰方法，其特征在于，所述电镀修饰方法包括如下步骤，提供碳纳米管阵列，将其置于真空腔内，密闭真空腔，对真空腔进行抽气以降低真空腔内的压力至45～55Pa，再向真空腔内注入去离子水，使碳纳米管阵列完全浸入去离子水中；继续抽气，当碳纳米管阵列的表面停止析出气泡时，停止抽气；向真空腔内注入空气，使内外压力平衡，然后将碳纳米管阵列取出；经过真空预处理的碳纳米管阵列置于电镀液中浸泡后进行电镀。