发明名称 | DMD投影光路垂直线阵的激光直写倾斜双面曝光系统 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种DMD投影光路垂直线阵的激光直写倾斜双面曝光系统,包括:以倾斜角度置于底座(4)上表面的DMD集成组件(2)以及PCB板件(3);所述DMD集成组件(2)为两套、倾斜平行对称分布在PCB板件(3)两侧;其中,DMD集成组件(2)的Z轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路(1)对同角度倾斜的PCB板件(3)A、B面同时进行平行曝光;本实用新型通过在PCB板件两边倾斜平行设置两套DMD器件投影光路能够同时曝光被曝光工件的正反两面,使得工作的效率提升一倍,更好的提高了产能,同时保证了产品的质量。 | ||
申请公布号 | CN205507355U | 申请公布日期 | 2016.08.24 |
申请号 | CN201620060016.6 | 申请日期 | 2016.01.22 |
申请人 | 江苏影速光电技术有限公司 | 发明人 | 马汝治;赵华;张伟;徐巍;王翰文 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人 | 周爱芳 |
主权项 | 一种DMD投影光路垂直线阵的激光直写倾斜双面曝光系统,其特征在于,包括:以倾斜角度置于底座(4)上表面的DMD集成组件(2)以及PCB板件(3);所述DMD集成组件(2)为两套、倾斜平行对称分布在PCB板件(3)两侧;其中,DMD集成组件(2)的Z轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路(1)对同角度倾斜的PCB板件(3)A、B面同时进行平行曝光。 | ||
地址 | 221600 江苏省徐州市邳州市经济开发区华山路 |