发明名称 一种利用盐酸和四氯化硅制备多晶硅的系统及方法
摘要 本发明公开了一种制备多晶硅的系统,包括SiHCl<sub>3</sub>合成系统、氯硅烷分离系统和多晶硅制备系统,原料在合成系统反应得氯硅烷混合物,经分离后SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>、SiCl<sub>4</sub>返回合成系统,SiHCl<sub>3</sub>纯化后进入多晶硅制备系统,多晶硅制备系统包括三氯氢硅还原系统、尾气分离系统和四氯化硅氢化系统,制备多晶硅的尾气经尾气分离后HCl、杂质排残物返回SiHCl<sub>3</sub>合成系统,H<sub>2</sub>、SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>和SiHCl<sub>3</sub>返回三氯氢硅还原系统,SiCl<sub>4</sub>进入四氯化硅氢化系统与H<sub>2</sub>反应,反应产物返回尾气分离系统。本发明还公开了与该系统对应的多晶硅制备方法。本发明按各种物料纯度分级循环,避免高纯物料与粗品物料混合带来的反复纯化。
申请公布号 CN103820852B 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201410078276.1 申请日期 2014.03.05
申请人 重庆海洲化学品有限公司 发明人 何天全;程政
分类号 C30B29/06(2006.01)I;C30B28/14(2006.01)I 主分类号 C30B29/06(2006.01)I
代理机构 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人 赵荣之
主权项 一种利用盐酸和四氯化硅制备多晶硅的系统,其特征在于:包括SiHCl<sub>3</sub>合成系统、氯硅烷分离系统和多晶硅制备系统,SiCl<sub>4</sub>、H<sub>2</sub>、HCl和工业硅粉在SiHCl<sub>3</sub>合成系统反应得到含有SiHCl<sub>3</sub>的氯硅烷混合物,所述氯硅烷混合物经氯硅烷分离系统分离得到粗品SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>、SiCl<sub>4</sub>和SiHCl<sub>3</sub>,粗品SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>和粗品SiCl<sub>4</sub>返回SiHCl<sub>3</sub>合成系统,粗品SiHCl<sub>3</sub>经纯化后进入多晶硅制备系统与H<sub>2</sub>反应制备多晶硅;所述SiHCl<sub>3</sub>合成系统包括流化床反应器和树脂催化塔,HCl和工业硅粉以及SiCl<sub>4</sub>、H<sub>2</sub>和工业硅粉分别在流化床反应器反应得到含SiHCl<sub>3</sub>的氯硅烷混合物;分离系统分离得到粗品SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>、部分粗品SiCl<sub>4</sub>进入催化塔合成SiHCl<sub>3</sub>,而分离得到另一部分SiCl<sub>4</sub>进入流化床反应器合成SiHCl<sub>3</sub>;所述多晶硅制备系统包括三氯氢硅还原系统、尾气分离系统和四氯化硅氢化系统,纯化的SiHCl<sub>3</sub>与氢气在三氯氢硅还原系统反应得到多晶硅棒和反应尾气,反应尾气进入尾气分离系统分离为H<sub>2</sub>、HCl、SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>、SiCl<sub>4</sub>、SiHCl<sub>3</sub>和少量杂质排残物,HCl和杂质排残物返回SiHCl<sub>3</sub>合成系统,H<sub>2</sub>、SiH<sub>2</sub>Cl<sub>2</sub>和SiHCl<sub>3</sub>返回三氯氢硅还原系统,SiCl<sub>4</sub>进入四氯化硅氢化系统与H<sub>2</sub>反应,反应产物返回尾气分离系统。
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