用于紫外线纳米固化腔室的石英喷洒器

摘要

本发明的实施例通常提供用于控制处理腔室内的气流分布的装置及方法。在一个实施例中，处理工具包括：紫外线处理腔室，该紫外线处理腔室界定处理区域；基板支撑件；窗口，该窗口设置于UV辐射源与该基板支撑件之间；以及透明喷洒器，该透明喷洒器设置于该窗口与该基板支撑件间的处理区域内且该透明喷洒器具有介于上处理区域与下处理区域间的一或更多透明喷洒器通道。该处理工具还包括气体分配环，该气体分配环具有介于气体分配环内沟槽与该上处理区域间的一或更多气体分配环通道；及气体出口环，该气体出口环设置于该气体分配环的下方，该气体出口环具有介于该气体出口环内的气体出口环内沟槽与该下处理区域间的一或更多气体出口通道。

主权项

一种用于控制处理腔室内的气流分布的处理工具，所述处理工具包含：紫外线处理腔室，所述紫外线处理腔室界定处理区域；基板支撑件，所述基板支撑件用于支撑所述处理区域内的基板；紫外线(UV)辐射源，所述紫外线辐射源与所述基板支撑件间隔开来且所述紫外线辐射源被配置成产生且向设置于所述基板支撑件上的基板发送紫外线辐射；窗口，所述窗口安置于所述UV辐射源与所述基板支撑件之间；其特征在于，所述处理工具进一步包含：透明喷洒器，所述透明喷洒器安置于所述窗口与所述基板支撑件间的所述处理区域内且所述透明喷洒器界定上处理区域及下处理区域，所述上处理区域位于所述窗口与所述透明喷洒器之间，而所述下处理区域位于所述透明喷洒器与所述基板支撑件之间，所述透明喷洒器具有介于所述上处理区域与所述下处理区域间的一或更多透明喷洒器通道；气体分配环，所述气体分配环具有介于所述气体分配环内的气体分配环内沟槽与所述上处理区域间的一或更多气体分配环通道；以及气体出口环，所述气体出口环设置于所述气体分配环的下方，所述气体出口环具有介于所述气体出口环内的气体出口环内沟槽与所述下处理区域间的一或更多气体出口通道。