| 发明名称 | CVD反应器的具有重量减小的排气板的进气机构 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种设备，用于实施CVD处理过程，所述设备具有进气机构(2)，所述进气机构(2)布置在反应器壳体(1)中并且具有朝向处理室(3)的排气板(8)，所述排气板(8)具有多孔材料和多个排气孔(9、9′)，通过布置在所述进气机构(2)中的气体分配室(7、21、26)为所述排气孔(9、9′)供给处理气体。为了从制造技术上改进具有较大涂层面的进气机构、尤其用于CVD反应器的进气机构，在此建议，多孔材料构成所述排气板(8)的芯件(12)，所述芯件(12)的与处理气体接触的表面区段被封装。 | ||
| 申请公布号 | CN105899709A | 申请公布日期 | 2016.08.24 |
| 申请号 | CN201480072849.8 | 申请日期 | 2014.12.17 |
| 申请人 | 艾克斯特朗欧洲公司 | 发明人 | B.P.戈皮;M.朗;M.格斯多夫 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 侯宇 |
| 主权项 | 一种用于实施CVD处理过程的设备，所述设备具有布置在反应器壳体(1)中的进气机构(2)，所述进气机构(2)具有朝向处理室(3)的排气板(8)，所述排气板(8)具有多孔材料和多个排气孔(9、9′)，通过布置在所述进气机构(2)中的气体分配室(7、21、26)为所述排气孔(9、9′)供给处理气体，其特征在于，多孔材料构成所述排气板(8)的芯件(12)，其与处理气体接触的表面区段被封装。 | ||
| 地址 | 德国黑措根拉特 | ||