用于光刻度量的方法、设备和衬底

摘要

一种衬底具有通过光刻工艺形成在其上的三个或更多叠置光栅。每个叠置光栅具有已知的叠置偏置。叠置偏置的值包括例如在居中于零点上区域中的两个值，以及居中在P/2上区域中的两个值，其中P是光栅的节距。使用不同的叠置偏置值的认知以及在叠置和目标非对称性之间的假设非线性相互关系从对于光栅的非对称性测量而计算叠置，由此校正特征非对称性。在零偏置和P/2区域中周期性关系具有相反符号的梯度。计算允许所述梯度具有不同的幅度以及相反的符号。计算也提供关于特征非对称性和其他处理效果的信息。该信息用于改进测量方法和/或光刻方法的后续性能。

主权项

一种测量光刻工艺的参数的方法，所述方法包括如下步骤：(a)在衬底上提供多个目标结构，每个目标结构包括叠置的周期性结构并且均具有已知的叠置偏置；(b)照射所述目标并且检测由每个目标结构散射的辐射以针对所述目标结构获得表示整体非对称性的测量值，所述整体非对称性包括因(i)所述已知叠置偏置、(ii)用于形成所述目标结构的光刻工艺的叠置性能以及(iii)所述周期性结构中的一个或多个内的特征非对称性所致的贡献；(c)使用针对三个或更多个目标结构的所述整体非对称性测量值计算所述叠置误差的测量值，使用所述已知的叠置偏置值和在叠置误差与非对称性之间的假设的非线性周期关系来执行所述计算，从而排除因特征非对称性所致的贡献，其中针对所述三个或更多个目标结构的叠置偏置的已知值包括落入所述周期性关系的第一区域内的至少两个值、以及落入所述周期性关系的第二区域内的至少一个值，在所述第一区域和所述第二区域中的周期性关系具有相反符号的梯度。