发明名称 | 光波导的形成 | ||
摘要 | 一般地描述了针对光波导、用于形成光波导的方法和系统、以及包括光波导的光学系统的技术。在一些示例中,光波导可以包括硅衬底的壁中的氮氧化硅区域。氮氧化硅区域可以限定光波导的内部区域。壁可以限定过孔。光波导可以包括衬底中的氧化硅区域。氧化硅区域可以限定与内部区域相邻的光波导的外部区域。 | ||
申请公布号 | CN103189768B | 申请公布日期 | 2016.08.24 |
申请号 | CN201080069982.X | 申请日期 | 2010.11.03 |
申请人 | 英派尔科技开发有限公司 | 发明人 | 基思·戈森 |
分类号 | G02B6/10(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/10(2006.01)I |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 吕俊刚 |
主权项 | 一种在硅衬底中形成的环形光波导,所述环形光波导包括:所述硅衬底的壁中的氮氧化硅区域,其中所述氮氧化硅区域限定所述环形光波导的内部区域,并且其中所述壁限定过孔;以及所述硅衬底中的氧化硅区域,其中所述氧化硅区域限定与所述内部区域相邻的所述环形光波导的外部区域,其中所述内部区域包括环形截面。 | ||
地址 | 美国特拉华州 |